Il controller per il taglio al plasma è composto principalmente dai seguenti componenti:
Fonte di alimentazione ad alta-frequenza: utilizzata per generare un campo elettrico ad alta-frequenza;
Rete di adattamento: utilizzata per regolare la distribuzione del campo elettrico ad alta-frequenza all'interno della camera del plasma;
Camera al plasma: utilizzata per ionizzare le molecole di gas e generare plasma;
Sistema del vuoto: garantisce il livello di vuoto e la stabilità della camera al plasma;
Sistema di controllo: utilizzato per controllare i parametri del plasma e ottenere un controllo stabile delle proprietà elettriche del plasma.
